随着工艺的进步，工业零件的加工开始朝着高精度，高集成度方向发展，这对于仪器加工的观察检测技术提出了极高的要求，下面我们来介绍几种常见的光学测量方法。

　　超精密加工表面极为光滑,表面粗糙度Ra值在几分之一纳米到十几纳米之间。加工超光滑表面的材料主要有光学玻璃、有机玻璃、石英玻璃等光学材料,锗、硅等半导体材料及铜、铝等金属材料。表面微观形貌测量的传统方法是机械触针法,该方法可通过触测直接获得被测表面某一截面的轮廓曲线,经计算机进行数据处理分析,可得到接近真实轮廓的各种表面特征参数。虽然该类仪器具有较高分辨率及较大量程(如Talystep触针式轮廓仪分辨率可达0.1nm,测量范围可达100μm),但由于测量时尖锐的金刚石触针极易划伤被测样件的超光滑表面并引起测量误差,因此其在超精密表面测量中的应用受到一定限制。近年来,扫描隧道显微镜(STM)及其衍生物原子力显微镜(AFM)的出现,使表面微观轮廓测量技术发生了革命性变革。该类仪器不但具有可达原子尺度的超高分辨率(横向分辨率0．1nm,垂直分辨率0．01nm),还能获得关于被测表面原子结构及功能特性的大量信息。但STM和AFM对测量环境要求苛刻,需要采取良好的隔振措施和配备复杂的传感器运动伺服控制系统,且仪器价格昂贵,测量范围也较小,在实际应用中还需解决精密隔振技术、压电陶瓷的控制等技术难题。自1960年激光器问世以来,由于激光具有单色性、相干性和方向性好、光强度高等特点,很快成为精密光学测量的理想光源,各种类型的激光干涉仪均以真空中的激光波长作为长度测量基准。主要采用激光作为测量光源的表面微观形貌光学测量方法不仅能实现高精度的快速非接触测量,而且系统结构简单、成本低,因此在超精密表面非接触测量领域得到了迅速发展。目前较为成熟的光学测量方法主要有差频法、扫描法、干涉法、衍射法等,同时一些新的方法正在研究开发之中。下面介绍几种较为典型的光学测量方法。

　　1．X射线干涉仪

　　X射线干涉仪的结构原理如图1所示。仪器主要由分束器S、镜子M和分析器A构成,它们是在同一晶块上制作的三片互相平行的截面为(111)或(220)的晶片,其材料需选用高度完整的单晶硅,因为单晶硅的晶格间距可以用作纳米级精度的基本测量单位。当X射线以布拉格角入射到X射线干涉仪上时,可在分析器后形成宏观的莫尔干涉条纹。当分析器沿其反射晶面的法线方向移动时,每移动一个晶格间距,输出光强就变化一个周期,通过记录输出光强的变化周期数,即可实现微位移测量。由于硅晶格间距仅为0．19nm,所以测量分辨率可达亚纳米级。X射线干涉测量法的优点是测量分辨率及测量精度高,缺点是对环境要求较高,测量范围相对较小。

　　2．差动干涉仪

　　渥拉斯顿棱镜型双频激光干涉仪的光学原理如图2所示。激光器输出频率分别为f1、f2的光束,它们分别为左旋和右旋圆偏振光,经过λ／4波片后,两束圆偏振光变成偏振方向相互垂直的线偏振光。该光束由分光器3分为两部分。向上反射部分作为参考光束,由透镜5聚焦于光电元件6。偏振片4按45°放置,使会聚于光电元件的不同频率的光束因具有相同的偏振方向而发生干涉,再由光电元件把干涉图形的变化转换为电信号送至放大器7。透过分光器3的光束即为测量光束,它通过由透镜16、17组成的望远系统,经平面反射镜15折向渥拉斯顿棱镜12,渥拉斯顿棱镜则把测量光束中两个不同偏振方向的光分开,再通过物镜13会聚于被测工件14表面上的两点,反射光束经物镜13后重新合成一束光,该光束再经透镜10和偏振片11会聚于光电元件9。光电元件9把干涉图形的变化转化为电信号送至放大器8,然后与放大器7上的参考信号进行比相,再经过计算机处理即可得到被测表面轮廓的高度变化。差动干涉仪既可用于测量微小位移和微小台阶高度,也可用于测量表面微观轮廓。由于两探测光点均落在工件上且距离很近,所以对振动和温度的变化均不敏感,其分辨率可达0．1nm数量级。 null

　　3．同轴干涉仪

　　同轴激光干涉仪的光学原理如图3所示。仪器采用双纵模热稳频激光器1作为光源,波片2将激光束分为参考光束和测量光束。参考光束通过与偏振方向成45°放置的偏振片P45°射到接收参考信号的雪崩二级管3上；测量光束通过分光器2到平面镜5,然后通过方解石棱镜6。通过棱镜6的中心光束,由透镜9聚焦于物镜11的焦面上后成为平行光,该光束为参考臂。通过物镜11和透镜9的调节,参考臂在试件表面上的光斑直径可在0．1——4mm之间变化。被方解石晶体分开向左的光束作为测量臂,该光束聚焦于试件表面的最小直径可达1μm。因此,当参考光斑的直径足够大时,参考臂几乎不受轮廓变化的影响,测量臂能检测出被测表面轮廓极微小的变化,该仪器的分辨率约为0．5nm。

　　4．双焦干涉仪

　　双焦激光干涉仪的光学原理如图4所示。He-Ne激光器1输出的偏振光束经扩束准直系统2及1／2波片4后进入双焦透镜组5。通过双焦透镜的特殊设计,可使寻常光的焦点趋于无穷远,而异常光的焦点位于有限远。这两束光再经过与异常光共焦的显微物镜6后,寻常光被聚焦于被测表面上,而异常光经物镜准直后成为细平行光束,也射到被测表面上。这两束光分别作为测量光束和参考光束,由被测表面反射回来后再经双焦透镜重新会合,经半反射镜8、9和λ／4波片及检偏器P1、P2后分别产生干涉,两组干涉条纹分别由探测器D1、D2接收。检偏器P1、P2相互垂直并由微型电机11驱动旋转,产生调制的干涉条纹信号。该系统可获得Ra2nm的垂直分辨率,其缺点是系统结构不紧凑,易受电子器件漂移的影响,回光调整比较困难。

　　5．光外差干涉仪

　　自1960年Crane首先提出光外差干涉原理以来,光外差干涉技术在位移、振动及表面测量等领域得到了广泛应用。图5所示为用于纳米测量的光外差马赫—曾德干涉仪的光学原理。图中M1——M4为反射镜；AOM1、AOM2为声光调制器；Mr、Mm分别为参考平面镜和测量平面镜；BE1、BE2为扩束系统；BS1、BS2为分光镜；H1、H2为光阑；PD1、PD2为光电接收器。该仪器的测量原理是通过测量PD1和PD2输出的干涉信号的相位差变化量,从而得到测量镜Mm的位移量d＝λΔφ／720(式中λ为激光波长,Δφ的单位为度)。该方法的优点是抗外界干扰能力强,通过简单的比相技术即可实现较高的测量分辨率,其缺点是非线性误差较大。